返回上一页 发布人:patent
我要发布信息
| 好书推荐：化学气相沉积（CVD）聚合物有机物表面改性和有机电子器件的制备 | 发布于:2016/06/19 | |
| 化学气相沉积（CVD，Chemical Vapor Deposition）是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。CVD法是传统制备薄膜的技术，其原理是利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应，使得气态前驱体中的某些成分分解，而在基体上形成薄膜。化学气相沉积包括常压化学气相沉积、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积、金属有机化合物沉积等。该方法广泛用于半导体工业中的有机材料、聚合物材料的制备，可制备出高纯度、无缺陷的薄膜材料，气相沉积过程对于诸如含氟的聚合物、导电聚合物、高交联度的有机聚合物等无法溶解的材料来说尤为重要。 本书内容主要介绍将聚合过程和有机制备的均相反应转变为异相反应过程的CVD聚合方法，并将其用于固体表面的修饰。全书共4个部分，综述了制备聚合物材料的各种CVD方法。 全书共分4部分，20章：1. 化学气相沉积法（CVD）综述。第1部分 CVD基础知识，含第2-7章：2.气相沉积的动态机理、动力学和分子量研究；3.共聚反应和交联相关的实验研究，包括相关的机理、热学性质、聚合物表面特性等研究；4.无热激发的接枝共聚法，包括等离子激发、光激发以及有机表面、无机表面修饰；5. CVD法制备聚合物涂敷材料；6. 等离子体加强CVD法，包括等离子相的反应、等离子体-表面反应和制备出的薄膜的性质；7. 通过分子层的沉积制备有机聚合物表面层状结构，包括聚酰胺、聚脲、聚硫脲、聚甲亚胺等。第2部分 材料的化学性质，含第8-11章：8. 聚合物薄膜制备的影响因素，如，pH影响、温度影响、化学影响等；9. 多功能聚合物涂层的制备；10.CVD法制备含氟聚合物，如PTFE、PVDF等；11. 共轭CVD聚合物：导体和半导体材料。第3部分 CVD聚合物的应用，含第12-18章：12. 倾斜角度CVD法制备聚对二甲苯以控制材料的湿度；13. CVD聚合物的膜表面改性；14. CVD聚合物表面的生物学特性；15.利用胶囊、模板和图形曝光等方法实现聚合物的功能化；16.在新表面沉积聚合物的应用，包括弹性体表面、液体表面、低温表面等新表面；17.有机器件的制备；18.CVD聚合物应用于半导体工业。第4部分 反应器和商业化，含第19-20章：19.CVD聚合物涂层的商业化应用；20.气体载体加强的CVD制备方法：以制备大面积的聚对二甲苯薄膜为例，介绍工业化解决方法。 本书作者Karen K. Gleason毕业于麻省理工学院，目前已发表300多篇文章以及关于CVD聚合物、CVD聚合物的应用、传感器、储能器件、生物器件等方面的18项专利。作者目前是麻省理工学院的化学工程系的主任，同时供职于纳米研究所，并且是国家学术中心的成员。可以说，这本书是作者在CVD聚合物方面研究成果的汇总，汇集了大量的研究数据和实验方法，值得相关人员参阅。 本书适合的读者群为聚合物、电子器件、有机材料领域的研究生和学者，该书对从事聚合物合成及应用、有机聚合物表面改性、有机电子器件的制备和应用、半导体等研究领域的相关人员有很大的参考价值。 彭金平，博士生 （国家纳米科学中心）来源：国外科技新书评介 |
||
