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| 半导体和其它材料的X射线散射 | 发布于:2016/01/12 | |
| X射线与物质的散射是由于X射线与物质中的电子的相互作用而产生，入射光子与物质中的原子碰撞，在各个方向上发生散射。散射作用分为两种，即相干散射和非相干散射。如果被散射光子能量与人射光子能量相同，没有能量损失，则称为相干散射或弹性散射，也称为瑞利散射。如果出现能量变化或损失，则为非相干散射，也称为康普顿散射。相干散射与光干涉现象相互作用的结果可产生X射线衍射。X射线衍射图案与晶格排列等密切相关，可被用于研究物质结构。 X射线散射技术是一系列常用的非破坏性分析技术，可用于揭示物质的晶体结构、化学组成以及物理性质。本书第3版延续之前版本的内容，并纳入了更多的补充内容，包含仪器对X射线散射截面的影响和倒易空间映射。另一个重要的新内容是粉末样品的散射，介绍了新的理论方法，解释了传统理论不能解释的现象。这个新版本也涵盖了其他一些最新的理论和方法，包括动力学理论和漫散射的最新见解。探测器的最新发展也为快速数据采集和其他数据采集技术中一些迥然不同的方法提供了新的发展机会，与这些进步相关的可能性也被本书新版包括。 本书内容共有5章：1.半导体材料简介；2.X射线散射理论；3.散射图案测量组件；4.散射图案测量仪器；5.结构参数的估计和散射图案解释的实用指南。 本书适合半导体研究和相关领域（材料科学，凝聚态）的学生和专业人员阅读和使用。想要使用X射线散射，希望更多了解测试样品特性的读者应该对该版本更感兴趣，该版本可让这类读者对参数设置和置信水平有更好的判断，并能够更好地全局考虑仪器、样品和检测方法的优化组合。 杨盈莹，副研究员 （中国科学院半导体研究所）来源：国外科技新书评介 |
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